智慧財產局正針對專利侵害鑑定基準進行修訂，並於二○○四年八月十八日公告專利侵害鑑定要點草案，將於近日內召開公聽會，以廣納各界意見。該要點分為上下兩篇 (上篇:專利權及侵害之認識; 下篇:專利侵害之鑑定原則)，內容重點如下:
前言介紹 (專利權之定義與性質、種類、發生與期限、發明專利早期公開與補償金請求權、新型專利權人行使權利應注意事項)專利權之效力與限制及再發明專利侵害之定義與證明(專利侵害之定義及證明、專利侵害之救濟與損害賠償)處理專利侵害案件應注意事項 (處理原則、舉證責任、重複專利之侵害處理原則)專利 (發明、新型或新式樣) 侵害之鑑定原則 (適用範圍、鑑定流程、鑑定方法、申請專利範圍之解釋及其與待鑑定對象之比對、文義讀取、均等論、禁反言、先前技術抗辯等)鑑定報告撰寫格式本所將密切注意該要點之修訂發展，並適時報導重大變動，供讀者參考。
